應用專業(yè)的超純水設備即可產(chǎn)出高品質的超純水，如今半導體行業(yè)常用的超純水設備核心工藝為反滲透工藝、EDI系統(tǒng)、混床工藝，這樣生產(chǎn)出的超純水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，具有環(huán)保、經(jīng)濟、發(fā)展?jié)摿?..

EDI超純水設備產(chǎn)水質量高、效率高、安裝操作都很便捷，能為各個行業(yè)穩(wěn)定提供超純水生產(chǎn)服務，具有極強的實用性。...

超純水設備與傳統(tǒng)工藝相比具有抗污染能力強、節(jié)能環(huán)保、產(chǎn)水水質穩(wěn)定、脫鹽率高、系統(tǒng)內無死水等優(yōu)勢。...

超純水設備可以連續(xù)穩(wěn)定運行，生產(chǎn)的超純水水質好、純度高、水量大。它搭配了PLC智能化程序，操作非常靈活，有效節(jié)約了人力投入成本。...

為了保證電子芯片的功能完好，在電子芯片清洗時使用超純水可以確保芯片功能穩(wěn)定，不發(fā)生損壞。...

超純水設備應用反滲透工藝和EDI系統(tǒng)相結合的工藝來制取超純水。該設備出水電阻率可達16 MΩ*cm(25℃)，具有環(huán)保、經(jīng)濟、發(fā)展?jié)摿薮蟮戎T多優(yōu)勢。...